简介
上海微电子SSA800系列28nm浸没式DUV光刻机完成首批批量交付，量产良率稳定在90%以上，整机国产化率超85%，标志国产光刻从能用到好用、可量产的关键跨越。
28nm浸没式量产验证
上海微电子装备(集团)自主研发的SSA800系列28nm浸没式DUV光刻机完成首批批量交付，进入量产工艺验证阶段。该机型2025年7月通过工信部专家组验收，2026年1月官宣全面量产，良率稳定超90%。
核心子系统全部国产
SSA800采用193nm ArF浸没式技术，单次曝光原生支持28nm，可通过多重曝光稳定实现14nm乃至更先进工艺。套刻精度控制在±2.3~2.5nm，每小时处理150片晶圆。整机国产化率超85%，三大核心子系统全部实现国产自研自产，全年将实现稳定量产交付，快速覆盖国内成熟制程晶圆厂扩产需求。
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